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1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據客戶(hù)需要選擇通道元素。 2、分析速度快捷，20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過(guò)設置預燃時(shí)間及標線(xiàn)，用短時(shí)間達到優(yōu)分析效果。

3、光學(xué)系統采用真空恒溫光室， 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實(shí)現光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結果準確，優(yōu)秀重現性及長(cháng)期穩定性。

4、特殊的光室結構設計，使真空室容積更??；自動(dòng)光路校準，光學(xué)系統自動(dòng)進(jìn)行譜線(xiàn)掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識別特定譜線(xiàn)，與原存儲線(xiàn)進(jìn)行對比，確定漂移位置，找出分析線(xiàn)當前的像素位置進(jìn)行測定；

6、開(kāi)放式的電極架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析。

7、工作曲線(xiàn)采用國際標樣，預做工作曲線(xiàn)，可根據需要延伸及擴展范圍，每條曲線(xiàn)由多達幾十塊標樣激發(fā)生成，自動(dòng)扣除干擾；HEPS數字化固態(tài)光源，適應各種不同材料

9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長(cháng)期運行穩定性；銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能。 10、合理的氬氣氣路設計，使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短，為用戶(hù)節省氬氣。

11、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長(cháng)，并設計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易。

12、高性能DSP及ARM處理器，具有高速數據采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀況。

13、儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無(wú)關(guān)，使儀器具有更好的適用性。

14、核心器件全部原裝進(jìn)口，保證了儀器品質(zhì)。 CCD/CMOS全譜光譜儀制造技術(shù)（數字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)）、通道不受限制 ；無(wú)須變動(dòng)增加硬件，基體范圍內通道改變增加不需費用，同一樣品不同的時(shí)間段分析，可獲得良好的數據一致性；體積小、重量輕， 移動(dòng)安裝方便 ；高集成度、高可靠性、高穩定性 。